韩国DB Hitek将为Meta代工AR眼镜PMIC,芯片由中企设计
来源:集微网 5 小时前

据报道,Meta预计将委托韩国芯片代工厂DB Hitek为其即将推出的AR眼镜生产电源管理集成电路(PMIC)。

据消息人士称,这家美国科技巨头的官员于8月中旬访问了韩国,并考察了DB Hitek位于富川市的工厂。此举旨在检查该供应商的设备、工艺和质量控制。

据他们称,这家韩国芯片代工厂通过了评估。预计该公司将于明年初生产PMIC的原型。DB Hitek将于2027年下半年开始为Meta将于同年推出的高端AR眼镜供应芯片。PMIC的设计由一家中国芯片代工厂完成。

Meta在Meta Connect 2024大会上发布了其AR眼镜原型Orion,也称为Nazare项目。该产品外观酷似真眼镜,拥有70度视角,并可在实体视图上叠加数字信息。Meta表示,计划于2027年实现该产品的商业化。

据悉,Meta选择DB Hitek是因为其在BCDMOS(双极-CMOS-DMOS)工艺方面拥有卓越的能力,该工艺被认为是世界一流的。该工艺将模拟电路、数字电路以及高压电源控制电路集成到一个芯片中。DB Hitek被认为在高压(70V至120V)工艺方面比其中国竞争对手更具优势。

近年来,DB Hitek的BCDMOS工艺为其增长做出了巨大贡献。第二季度,BCDMOS工艺产品占其收入的65%,同比增长10个百分点。

消息人士称,由于PMIC生产订单激增,该芯片代工厂目前的产能利用率达到90%左右。预计此类代工生产的需求(尤其是来自中国无晶圆厂的需求)将持续增长,这意味着DB Hitek的开工率在可预见的未来也有望保持高位。

消息人士称,尽管Meta的PMIC生产订单在数量上可能并不令人印象深刻,但大型科技公司下单的事实对DB Hitek来说是一个利好消息,值得参考。他们补充道,AR和VR设备的电源规格持续严苛,因此设备制造商将寻求像DB Hitek这样在高压低功耗领域拥有成熟实力的代工厂。(校对/赵月)

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