2026年3月，俄罗斯国家工业信息系统（GISP）最新目录显示，俄罗斯泽列诺格勒纳米技术中心（ZNTC）与白俄罗斯Planar公司联合研发的350纳米光刻系统已正式纳入国家工业设备名录。该设备型号为RAVC.442174.002TU，采用365纳米波长的i线紫外光源，可处理200毫米标准晶圆，对准精度达90纳米，具备量产工业级芯片能力，将广泛应用于电源管理、汽车电子、航空航天控制及嵌入式系统等领域。该项目于2021年启动，由俄罗斯工业和贸易部资助，旨在打破西方技术封锁，构建独立半导体制造生态系统。GISP目录的收录为该设备打开了国内市场通道，政府机构及国有企业在采购时将优先考虑名录内的国产产品。尽管350纳米制程节点与全球最先进的3纳米或5纳米工艺存在差距，但现代工业体系对这类成熟制程芯片的需求量巨大且稳定。ZNTC方面透露，下一代研发目标已锁定在130纳米节点，若能攻克这一技术关口，俄罗斯国产芯片的适用范围将进一步扩大。此外，该设备的技术源头可追溯至30多年前苏联在光刻和微纳加工领域的技术积累。