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同济大学关于极紫外光刻薄膜反射镜抗辐照损伤性能的研究成果发表于《纳米快报》
1 周前
近日，同济大学物理科学与工程学院王占山教授和李文斌教授团队在《纳米快报》（Nano Letters）上发表了一篇题为“Enhanced Damage Resistance of Mo/Si Multilayer Mirror with Carbon Barrier Layers Under Intense Nanosecond EUV Irradiation”的论文。该论文首次证实，在极紫外光刻Mo/Si多层膜中引入碳阻隔层，能显著提升其抗极紫外辐照损伤性能。这一发现对提升极紫外光刻技术的效率和稳定性具有重要意义。
