三星加购两台High NA EUV光刻机，增强2nm代工工艺

3 天前

2025年10月16日，三星电子宣布将投资约1.1万亿韩元，引进两台最新的High-NA双级极紫外（EUV）光刻机，用于半导体产品量产。首台设备预计于年内到位，第二台将于2026年上半年安装。此举旨在提升先进制程产能，强化其在全球半导体市场的竞争力，满足市场对高性能芯片日益增长的需求。

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