消息称三星电子3nm、2nm良率分别超60%、40%,正与外部客户展开性能评估
1 天前

三星电子基于GAA晶体管结构的3nm和2nm工艺良率已分别突破60%和40%。工艺良率的提升使三星积极争取先进制程订单,其晶圆代工业务预计即将完成英伟达GPU和高通移动端AP项目的2nm工艺性能评估。