最新研究报告指出，尽管EUV光刻机出口受限，但中国大陆晶圆制造企业近年来不断采购浸没式DUV光刻设备，已构建起可观的先进光刻能力储备。这些设备足以支撑一定规模的7纳米级芯片生产，可能对现有出口管制措施产生一定削弱效果。
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