台积电公布N2 2nm缺陷率：比3/5/7nm都要好 - 芯片

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台积电公布N2 2nm缺陷率：比3/5/7nm都要好

3 天前

在近日北美技术论坛上，台积电首次披露其N2 2nm工艺的缺陷率情况，表现优于7nm、5nm、3nm等历代工艺。尽管未给出具体数据，但通过比较各工艺缺陷率随时间变化的趋势，可以明显看出2nm工艺的进步。

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