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高数值孔径EUV工具成本近4亿美元却可在复杂层上实现大幅节省

2 周前

高数值孔径EUV光刻技术虽价格高达3.8亿美元，但在特定情境下能降低总体生产成本。IBM研究人员在2025年2月的SPIE会议上透露，该技术单次曝光成本是标准低数值孔径曝光的2.5倍。然而，当取代复杂的多重图案化工艺时，其优势显现。

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