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三星已拿下首台High-NA EUV光刻机

6 天前

三星电子本月初在华城园区引入首台ASML生产的High-NA EUV光刻机EXE:5000，价值5000亿韩元（约24.88亿元人民币）。ASML是全球唯一供应商，通过提升数值孔径（NA）至0.55，显著提高了光刻精度，成为2nm及以下制程的关键设备。

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