据路透社等媒体报道，中国国有企业上海爱晟纳电子科技集团携手上海微电子装备（SMEE）及上海电气集团等，在国产深度紫外（DUV）芯片制造设备上实现技术突破。尽管这一进展备受瞩目，但行业分析认为，短期内国产DUV浸没式光刻机尚不足以撼动全球行业巨头阿斯麦（ASML）的市场地位。
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