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三星半导体新动向：舍弃低端光掩模自产，全力进军尖端光刻领域
1 天前
三星电子计划调整生产策略，将低端光掩模生产外包，专注于高端光刻技术。目前，公司正在评估日本Tekscend Photomask和美国PKL等潜在合作伙伴，预计三季度完成评估。此举意味着三星将从自给自足的生产模式转向更灵活的模式，以应对设备老化和技术需求变化。光掩模是半导体制造的关键组件，其中EUV适用于尖端工艺，而i-line与KrF则主要用于成熟节点。
