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精测半导体“光学特性建模方法及装置、光学参数测量方法”专利获授权
2 天前
上海精测半导体技术有限公司近日获得“光学特性建模方法及装置、光学参数测量方法”专利，授权公告号CN114963996B，公告日期为2025年2月14日，申请日期为2022年4月22日。该专利涉及通过获取周期性介质特性参数，构建耦合波方程组，并简化求解，以提高光学建模效率及测量准确度。
