NEO Semiconductor公司近日宣布推出两种革命性的3D X-DRAM单元设计——1T1C和3T0C,有望重塑DRAM内存行业。这两种设计分别采用单晶体管单电容和三晶体管零电容架构,预计2026年投入概念验证测试芯片生产,其容量可达当前普通DRAM模块的10倍。