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北方华创“半导体工艺腔室及半导体工艺设备”专利公布
1 天前
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来源：集微网
天眼查显示，北京北方华创微电子装备有限公司“半导体工艺腔室及半导体工艺设备”专利公布，申请公布日为2025年2月14日，申请公布号为CN118431057A。
天眼查显示，北京北方华创微电子装备有限公司“半导体工艺腔室及半导体工艺设备”专利公布，申请公布日为2025年2月14日，申请公布号为CN118431057A。
本申请公开了一种半导体工艺腔室及半导体工艺设备，涉及半导体领域。一种半导体工艺腔室包括：腔体、承载组件和连接组件；承载组件包括多个第一承载件和多个第二承载件，其中一个第一承载件与相邻的第二承载件相互间隔形成工艺空间，第一承载件设有多个馈入端，第二承载件设有多个接地端；连接组件包括连接条、多个弹性部件、多个射频连接块和多个接地连接块，连接条包括多个并联的分支端；多个射频连接块通过一部分弹性部件分别与多个分支端连接；每个第一承载件的多个馈入端分别与多个射频连接块连接，每个第二承载件的多个接地端分别与多个接地连接块连接。本申请能够解决当前PECVD设备由于驻波效应影响设备成膜均匀性等问题。
