搜索
精测半导体“光学特性建模方法及装置、光学参数测量方法”专利获授权
1 天前
/ 阅读约1分钟
来源：集微网
天眼查显示，上海精测半导体技术有限公司近日取得一项名为“光学特性建模方法及装置、光学参数测量方法”的专利，授权公告号为CN114963996B，授权公告日为2025年2月14日，申请日为2022年4月22日。
天眼查显示，上海精测半导体技术有限公司近日取得一项名为“光学特性建模方法及装置、光学参数测量方法”的专利，授权公告号为CN114963996B，授权公告日为2025年2月14日，申请日为2022年4月22日。
本发明提供了一种光学特性建模方法及装置、光学参数测量方法，所述光学特性建模方法，包括：获取周期性介质的特性参数，并基于所述特性参数和严格耦合波分析法构建第一耦合波方程组；所述周期性介质关于光束入射平面对称；获取电场的两个正交分量或磁场的两个正交分量的线性组合，并基于所述第一耦合波方程组和所述电场的两个正交分量或所述磁场的两个正交分量的线性组合构建第二耦合波方程组；根据所述周期性介质的对称性简化所述第二耦合波方程组；求解简化后的所述第二耦合波方程组，得到理论光谱。本发明提高了光学建模的效率，以得到理论光谱。
