维安半导体“一种低钳位内嵌降容二极管的新型可控硅器件”专利获授权
2025-02-14 / 阅读约1分钟
来源:集微网
天眼查显示,上海维安半导体有限公司近日取得一项名为“一种低钳位内嵌降容二极管的新型可控硅器件”的专利,授权公告号为CN111092117B,授权公告日为2024年12月31日,申请日为2020年02月21日。

天眼查显示,上海维安半导体有限公司近日取得一项名为“一种低钳位内嵌降容二极管的新型可控硅器件”的专利,授权公告号为CN111092117B,授权公告日为2024年12月31日,申请日为2020年02月21日。

一种低钳位内嵌降容二极管的新型可控硅器件,包括可控硅模块、二极管模块,可控硅模块与二极管模块形成于硅衬底的异质外延层上,可控硅模块与二极管模块分别采用深槽DTI隔离。本发明产品解决了集成二极管的可控硅器件钳位电压高的问题,获得一种在同等面积和同等电容下,钳位电压更低的器件。